VEStudio虛擬仿真創作平臺特性：
【全新引擎升級】——
支持DX,更好的兼容性
支持WinXP，Win7操作系統
支持32位、64位的MAX插件
子屬性編輯
自動dds紋理優化工具
PS聯動編輯紋理實時修改
【次世代畫面】——
實時光影、霧效、凹凸、offsetting、反射貼圖、BLOOM、SSAO、DOF、GodRays特效、水面、鏡面、環境反射渲染
【組件式場景搭建】——
標準模型、庫模型、粒子模板、材質模板
【材質系統】——
次世代、水面、混合（支持MAX合成材質導出為VES的混合材質。）、swf材質（場景中視頻如電視畫面、等離子廣告）、玻璃、天空、卡通等
【粒子系統】——
可視化編輯
【物理碰撞】——
碰撞導航、角色漫游導航、人工智能
【全新GUI界面與腳本交互】——
支持Flash格式GUI界面、自定義菜單交互、鼠標交互、界面自動縮放
【主模塊】——
人工智能(Artificial Intelligence)、交互物體、體積云、海洋模塊、海量場景
【場景發布】——
數據安全：
場景加密輸出、版權聲明保護
網頁發布：
自動更新主程序、場景緩存模式、智能化便捷的發布模式
【教程指南】——
軟件附帶全新chm幫助文檔、平臺自帶多個可編輯案例場景
VEStudio2.2正式版
繼續修改了Alpha版以后已知的Bug；
修改提升了陰影的效率；
增加了PS特效；
增加了頂點/紋理動畫及相關腳本函數；
增加了高光貼圖支持；
增加了SketchUp的模型導出插件；
增加了例子[動畫大觀]；
支持自定義加載界面。
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